Nanoscribe GmbH - True 3D Laser Lithography
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Technologie

TechnologieDie von Nanoscribe verwendete Technik zur Herstellung dreidimensionaler Mikro- und Nanostrukturen aus photosensitiven Materialien beruht auf dem Verfahren des "Direkten Laserschreibens", ein nicht-linearer 2-Photonen-Absorptionsprozess. Erfahren Sie auf den folgenden Seiten mehr über die technischen Hintergründe dieser Technologie:

 

Konferenzen


Bevorstehende Messen und Konferenzen, auf denen Nanoscribes 3D Laser-Lithografiesystem präsentiert wird:

Semicon Taiwan 2010

Taipei, Taiwan
8.-10. September 2010
Stand: 2334


Metamaterials 2010

Karlsruhe, Deutschland
13.-16. September 2010


MNE 2010

Genua, Italien
19.-22. September 2010
Stand: S5


PECS 2010

Granada, Spanien
26.-30. September 2010
Stand: 11


NanoBioTech 2010

Montreux, Schweiz
15.-17. November 2010