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3D Laser-Lithografie / Direktes Laserschreiben

Beim "Direkten Laserschreiben" werden ultrakurze Laserimpulse verwendet mit einer Ein-Photonen-Energie unterhalb der Absorptionsschwelle des photosensitiven Mediums. Dies bedeutet, dass das zu belichtende Material transparent für das verwendete Laserlicht ist. Wird jedoch dieser Laserstrahl stark fokussiert, so werden im fokalen Volumen Mehrphotonen-Absorptionsprozesse  wahrscheinlich. Dies ermöglicht eine chemische und / oder physikalische Modifikation im fokalen Volumen, und letztlich eine selektive Löslichkeit des belichteten Bereichs relativ zu dem umgebenden. Nach dem Bad in einem Entwickler können so, abhängig von dem verwendeten photosensitiven Material unbelichtete oder belichtete Bereiche herausgelöst werden.

Somit können nahezu beliebige dreidimensionale Strukturen aus unterschiedlichen photosensitiven Materialien (z.B. IP-Lacke, SU-8, Ormocere, PDMS, chalkogenide Gläser) hergestellt werden. Darüber hinaus können diese Strukturen als Template für replizierende (positiv-positiv), sowie invertierende (positiv-negativ) Verfahren in andere Materialien (z.B. Silizium, Silica) dienen.