IP-Lacke
Die IP-Photolackfamilie von Nanoscribe zielt speziell auf die Anforderungen des Direkten Laserschreibens ab: extrem hohe Auflösung in drei Dimensionen bei hoher mechanischer Stabilität. Beide erhältlichen Formulierungen sind acrylbasierte Negativlacke.
Eigenschaften:
- Strukturgrößen kleiner als 100 nm
- geringer Nahwirkungseffekt
- geringe mechanische Spannungen
- geringes Schrumpfen
- gute Adhäsion auf Glassubstraten
- einfache Handhabung:
Die Kombination dieser Eigenschaften führt nicht nur zu sehr hohen Auflösungen, sondern erlaubt auch sehr reproduzierbare Ergebnisse - selbst wenn sich Schichtdicken und die Umgebungsfeuchte ändern. Zudem müssen nur sehr wenige Optimierungsschritte durchgeführt werden, um hohe Auflösungen zu erzielen, da das Lacksystem sehr robust gegenüber äußeren Parametern ist.
IP-G
IP-G ist die Solgel-Formulierung des acrylbasierten Photolacks. Die hohe Viskosität macht den Lack ideal zum Verwirklichen von komplexen, feinen Strukturen auf der Submikrometerskala (siehe beispielsweise den miniaturisierten Eiffelturm in der oberen Abbildung).
IP-L
IP-L ist die flüssige Formulierung des Photolacks. Dieser Lack ermöglicht die allerhöchsten Auflösungen, die bisher mit Laserlithografiesystemen von Nanoscribe verwirklicht wurden (siehe Abb. 1 und 2).
Abb.1: Gitter von parallelen Linien mit einem Abstand (Mitte zu Mitte) von 300 nm. Die Linienbreiten sind kleiner als 90 nm. Lacksystem: IP-L.
Abb.2: Woodpile-Struktur bestehend aus parallelen, übereinandergeschichteten Balken. Der Linienabstand wurde zwischen 0,4 μm und 1,5 μm in 100-nm-Schritten variiert. Lacksystem: IP-L.
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