Nanoscribe GmbH - True 3D Laser Lithography
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IP-Lacke

Eiffel tower in the scale 1:3,000,000. Material: IP-GDie Ip-Photolackfamilie von Nanoscribe zielt speziell auf die Anforderungen des Direkten Laserschreibens ab: extrem hohe Auflösung in drei Dimensionen bei hoher mechanischer Stabilität. Beide erhältlichen Formulierungen sind acrylbasierte Negativlacke.

Eigenschaften:

Die Kombination dieser Eigenschaften führt nicht nur zu sehr hohen Auflösungen, sondern erlaubt auch sehr reproduzierbare Ergebnisse - selbst wenn sich Schichtdicken und die Umgebungsfeuchte ändern. Zudem müssen nur sehr wenige Optimierungsschritte durchgeführt werden, um hohe Auflösungen zu erzielen, da das Lacksystem sehr robust gegenüber äußeren Parametern ist.

 

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IP-G

IP-G ist die Solgel-Formulierung des acrylbasierten Photolacks. Die hohe Viskosität macht den Lack ideal zum Verwirklichen von komplexen, feinen Strukturen auf der Submikrometerskala (siehe  beispielsweise den miniaturisierten Eiffelturm in der oberen Abbildung).

IP-L

IP-L ist die flüssige Formulierung des Photolacks. Dieser Lack ermöglicht die allerhöchsten  Auflösungen, die bisher mit Laserlithografiesystemen von Nanoscribe verwirklicht wurden (siehe Abb. 1 und 2).
 

Grating of parallel lines, with a center-to-center rod distance of 300 nm.

Abb.1: Gitter von parallelen Linien mit einem Abstand  (Mitte zu Mitte) von 300 nm. Die Linienbreiten sind kleiner als 90 nm. Lacksystem: IP-L.
 

Photonic woodpile structures consisting of parallel rods stacked upon another.

Abb.2: Woodpile-Struktur bestehend aus parallelen, übereinandergeschichteten Balken. Der Linienabstand wurde zwischen 0,4 μm und 1,5 μm in 100-nm-Schritten variiert. Lacksystem: IP-L.

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Dokumente
IP-Resist IP-Dip.pdf

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