IPフォトレジスト

ナノスクライブのIP フォトレジスト･シリーズは2 光子重合による真の3 次元直接レーザー描画での要求に応えて特別に開発されたものです。すなわち、高い機械的安定性、且つ3次元における驚異的な解像度の両立を得られるものは、アクリル系ネガティブ･レジストです。

基本的特徴:

形状100nm 以下
低近接効果
低応力
微小な縮小量
ガラス基板への良好な粘着性
容易な取扱い
- レジストのドロップ･キャスティング
- プリベーク不要(IP-L)
- 露光後ベーク不要(IP-L,IP-G)

これらの特性の組み合わせによって、解像度を極限まで追求できるだけでなく、膜厚と環境の湿度が異なる場合でも良好な再現性をもたらし、現像時に、高解像度が求められる時に重要となるフォトレジストのハンドリング条件(ベークの温度コントロールや環境のコンディションの制御)を最適化するにあたって、殆ど手がかかりません。