Dip-in Laserlithografie (DiLL)
Mit der von Nanoscribe entwickelten und zum Patent angemeldeten DiLL-Technologie (Dip-In Laser Lithografie) werden neue Maßstäbe in der 3D-Nanolithografie gesetzt: Dabei liefert das Photonic Professional System wie zuvor höchste Auflösung im Submikrometer-Bereich, erlaubt aber zusätzlich Strukturhöhen weit über den normalerweise begrenzten Arbeitsabstand eines hochauflösenden Objektivs hinaus! Dadurch werden viele neue Anwendungsfelder erschlossen, beispielsweise im Bereich der Mikrooptik oder mechanischer Metamaterialien.
Speziell für die DiLL-Technologie entwickelte Fotolacke sowie für Einsteiger optimierte Substrate sichern einen automatisierten Prozess und garantieren hochqualitative Strukturen von Anfang an! Da keine Leistungs- und Positionskorrekturen nötig sind, erlaubt DiLL eine deutlich vereinfachte Umsetzung Ihrer Visionen, die Sie per CAD-Software planen und dann einfach als STL-Datei weiter verarbeiten können.
Die Nachrüstung des Photonic Professional mit einem DiLL-Objektiv erlaubt theoretisch unbegrenzte Strukturhöhen und bietet erstmals eine konstante Abbildungsqualität bei höchster Auflösung unabhängig von der Schreibhöhe. Damit werden extreme Aspektverhältnisse ermöglicht, die mit konventioneller Lithographie undenkbar wären.
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