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3D Laser-Lithografiesysteme der Firma Nanoscribe ermöglichen die Herstellung dreidimensionaler Nano- und Mikro-Strukturen in kommerziellen Fotolacken. Diese einzigartige Leistungsfähigkeit wird durch Mehrphotonenabsorption realisiert: Ultrakurze Laserimpulse belichten vorgegebene 3D Nano- und Mikro-Strukturen, die anschließend als freitragende Strukturen herausgelöst werden können. Dies ermöglicht standardmäßig Linienbreiten von kleiner 150 nm. Mikroskop-Objektive sowie die Scannereinheit werden für die jeweiligen Einsatzbereiche konfiguriert. Dabei sind Schreibtiefen von bis zu 300 µm auf einer Fläche von maximal 100x72 mm² realisierbar. Die Strukturen können per CAD-Software (importierbare Formate: DXF, STL) oder alternativ mit der eigens entwickelten Skript-Sprache GWL (General Writing Language) entworfen werden. Als besonderes Feature ermöglicht GWL mit einer einfachen Programmsprache den Vollzugriff auf alle variablen Systemparameter.
Material makes the difference: Mittels der 3D Laserlithografie lassen sich eine Vielzahl photosensitiver Materialien beschreiben. Flankierend bietet Nanoscribe umfangreiches Know-how in der Abformung dreidimensionaler Strukturen in Metalle, Halbleiter sowie SiO2 an.
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