Nanoscribe GmbH - True 3D Laser Lithography
Deutsch English 日本語 Impressum

Lacksysteme

Nanoscribe untersucht und entwickelt auch zusätzliche Photolacke für 2D- und 3D-Anwendungen.

Konferenzen


Bevorstehende Messen und Konferenzen, auf denen Nanoscribes 3D Laser-Lithografiesystem präsentiert wird:

Semicon Taiwan 2010

Taipei, Taiwan
8.-10. September 2010
Stand: 2334


Metamaterials 2010

Karlsruhe, Deutschland
13.-16. September 2010


MNE 2010

Genua, Italien
19.-22. September 2010
Stand: S5


PECS 2010

Granada, Spanien
26.-30. September 2010
Stand: 11


NanoBioTech 2010

Montreux, Schweiz
15.-17. November 2010