Positivlack Strukturen


Die durch die Zwei-Photonenabsorption induzierte "Entpolymerisation" ermöglicht die flexible Strukturierung von Positivlacken auf einer Vielzahl an opaken oder transparenten Substraten. Damit können direkt hochauflösende 2D Muster mit feinsten Details in den Fotolack strukturiert werden ohne vorherige Erstellung von Belichtungsmasken.

Damit ist diese Technologie zwischen der Elektronenstrahllithografie und Systemen die direktes Laserschreiben auf Basis der Ein-Photonenabsorption bieten einzuordnen. Die Fotolackmuster können im Anschluss an den Strukturierungsprozess durch Ätzen oder Materialbedampfung und Lift-Off Prozess in oder auf das Substrat transferiert werden.

Durch Galvanisierung können diese 2D Muster auch als Urform für Metallteile dienen. Hier finden Sie einige Beispielbilder zum Thema, die Bildbeschreibungen sind nur auf Englisch verfügbar.

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