Pressemeldung


Dip-in Laserlithografie (DiLL)

19. September, 2012

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Mit der Entwicklung der Dip-in Laserlithografie (DiLL) ist es der Nanoscribe GmbH gelungen, ein neues Kapitel in der Nano- und Mikrofabrikation von 3D-Strukturen aufzuschlagen. Die zum Patent angemeldete DiLL-Technik ermöglicht hochaufgelöste dreidimensionale Strukturen weit über den Arbeitsabstand des Objektivs hinaus.

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