IP Fotolacke


Um die optimale Leistungsfähigkeit unserer Systeme zu ermöglichen, bieten wir selbst entwickelte IP Fotolacke an. Diese Negativlacke garantieren höchste Auflösung in Kombination mit einer einfachen Prozessierung. Sie sind optimal abgestimmt auf den 3D Druck auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation. Die IP Fotolacke sind exklusiv für Kunden unserer System erhältlich.
 

Schlüsselmerkmale:

  • IP Photoresists

    Einfache Handhabung durch Tropfauftrag
  • Kein post-exposure bake nötig
  • Gute Adhäsion auf verschiedenen Substratmaterialien
  • Niedrige Materialverspanung
  • Hohe mechanische Stabilität
  • Optimierte Empfindlichkeit für schnelle 3D Strukturierung
  • Kleinste Strukturmerkmale im Bereich 150 nm

 

IP Photoresists Overview

 

Zustand

Pre-bake /
Post-bake

Auflösung

Schrumpfung

IP-Dip

Brechungsindexangepasster Lack, der gleichzeitig als Immersionsmedium und fotosensitives Material dient.

Flüssig Nein /
Nein
Hoch Mittel

IP-L 780

Höchstauflösender Fotolack

Flüssig  Nein /
Nein
Hoch Niedrig

IP-G 780

Hochviskoser Fotolack für komplexe 3D Schreibtrajektorien

Sol-gel Ja /
Nein
Hoch Niedrig

IP-S

Brechungsindexangepasster Lack für glatte Oberflächen und schnelle Strukturierung großer 3D Bauteile

Flüssig Nein / Nein Mittel Niedrig