Maskenlose Lithografie


nano-micro-masklessLithography_web.jpgREM Aufnahmen verschiedener 2D Muster in Positiv- und Negativlacken, hergestellt mit dem Photonic Professional GT.

Multiphotonen-Lithografie ermöglicht auch die subtraktive Strukturierung von Positivlacken. Durch die nichtlineare Lichtabsorption wird das fotosensitve Material räumlich eingeschränkt "depolymerisiert". In einem an die Belichtung anschließenden Bad in Entwicklerflüssigkeit  können diese Bereiche dann herausgewaschen werden. Dadurch wird es möglich, hochauflösende 2D Strukturen in Dünnfilmlacken auf einer Vielzahl von transparenten (z. B. Glas) oder opaken (z. B. Silizium) ohne Verwendung einer Fotomaske zu erzeugen. Nebenstehendes Bild zeigt einen Siliziumwafer mit einem Durchmesser von vier Zoll der einen strukturierten Dünnfilm der AZ Serie aufweist. Auf der Liste der möglichen Positivlacke stehen AZ® MIR 701, AZ® 5214, AZ® 9260, and AZ® 40XT. Die Oberflächenstrukturierung von Fotopolymeren kann allerdings auch mit Negativlacken wie SU-8 oder den IP Lacken von Nanoscribe gemacht werden. Im Allgemeinen ermöglichen diese Fotolacke eine robuste und zuverlässige Prozessierung, da hier die räumlich eingeschränkte Polymersation eine Quervernetzung der Polymerketten bewirkt. Vor- und Nachprozessierungsparameter haben dann weniger Einfluss auf das Endergebnis.