Positivlack Strukturen


Der nichtlineare Zweiphotonenabsorp-tions- (2PA) -Effekt, der für den auf Zweiphotonenpolymerisation basierenden 3D-Druck benutzt wird, kann auch verwendet werden, um geeignete Positivlacke mittels eines subtraktiven, direktschreibenden und daher maskenlosen Verfahren zu strukturieren. Hier wird der strukturschreibende Laserstrahl in das Material fokussiert und es nur im Fokus belichtet. Die effektive Belichtung kann daher in allen drei Dimensionen kontrolliert und begrenzt werden.

Auf diese Weise kann eine einzelne dicke oder dünne Positivlack-Schicht lagenweise belichtet werden. Dieses Prozessmerkmal hat einen großen Vorteil: Die Belichtungsparameter hängen ausschließlich vom verwendeten Fotolack ab und sind unabhängig vom zu belichtenden Muster, da eine signifikante Absorption innerhalb des Materials nur im Fokus des Lasers auftritt. 2D, 2.5D und sogar 3D-Muster in dünnen und dicken Schichten können auf diese Weise erstellt werden.

Viele der im Handel erhältlichen Positivlacken (wie die AZ®-Lacke) sind mit 2PA-Verfahren kompatibel, so dass ein nachfolgender Mustertransfer unter Verwendung etablierter Techniken wie Ätzen, Materialabscheidung und Lift-Off-Verfahren oder Galvanisierung so einfach wie möglich ist.

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