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Einladung: Symposium Nanolithographie

13. Februar, 2019

Am 13. März 2019 findet am IST Austria das 2nd Symposium on Direct Write, Optical, Ion and Electron Beam Lithography statt. Technische Experten von Heidelberg Instruments, micro resist technology, Raith und Nanoscribe werden Herausforderungen und Lösungen aktueller Spitzentechnologien der Nano- und Mikrofabrikation präsentieren. Kunden der genannten Unternehmen und alle mit Interesse an der Mikrofabrikation haben die Möglichkeit, sich mit den Experten auszutauschen.

Das detaillierte Programm finden Sie hier: Agenda IST Symposium

Das Themenspektrum reicht von Plasmonik, Photonik und Mikrooptik über Biomimetik bis hin zur Polymerforschung. Sie sind herzlich eingeladen! Für registrierte Teilnehmer aus Hochschulen ist die Veranstaltung kostenfrei. Für Teilnehmer aus der Industrie wird eine Gebühr von 250 Euro erhoben.

Registrierung über dieses Webformular: Anmeldung IST Symposium


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